Characterization of SnO2 thin films deposited by MOCVD using SnEt4 and oxygen as dual source precursors - Détails de la publication

Production Scientifique P.S.

Characterization of SnO2 thin films deposited by MOCVD using SnEt4 and oxygen as dual source precursors

Auteur

M. Amjoud, F. Maury, M. Richard and M. Elaatmani

Revue

Le vide: Science, technique et applications

Année

1996

Chercheur

AMJOUD M'barek

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